Subscribe eNewsletter Magazines
Search  高级搜索

2008年10月刊
SST-AP China 2008年10月刊
[编者话 Editorial]   [封面文章 Cover Story]   [半导体制造 Semiconductor manufacturing]   [封装技术 Advanced Packaging]   [NMD 技术专栏 Tech Feaures]   [产业分析 Industry Analysis]   [科技新知 Tech update]   [新品橱窗 New Products]   [其他 Others]   [广告索引 Ad Index]   [产业新闻 WaferNews]   
编者话 Editorial

有机电子:From Lab to Fab
有机半导体和有机电子学开始转向商业化,解决面临的从研发到制造、整合、测试测量的挑战。业界目前面对的主要问题...

封面文章 Cover Story

能使蚀刻反应室达到匹配的具有测量功能的硅片
Qimonda应用具有温度和电压测量功能的硅片,在等离子蚀刻生产系统中来确定有关反应室匹配的影响因数。在这项研究中...

半导体制造 Semiconductor manufacturing

用于柔性有机电子学的涂覆沉积工艺
柔性电子学、印刷电子学和有机电子(FPOE,flexible, printed, and organic electronics)产品的开发商们,在转向实际...

降低TFT-LCD制造成本的薄膜沉积技术
介绍平板显示制造中一种新型薄膜沉积技术,它采用旋转靶材设计,取代传统的平面靶材结构,可以应用于8.5代以上的TFT-LCD产品...

利用深度CDA干燥设备ADH替代传统N2防氧化设备
在半导体芯片封装及液晶显示器制造等微电子生产制造行业内,使用了大量的液氮或瓶装氮气用于保存材料和半成品,目的是为...

封装技术 Advanced Packaging

细间距植球
要减少已经是最小型化高密度装配的半导体封装尺寸的需求,正在对IC供应商和封装专家造成压力,要求他们开发更快、更有成效...

高端FCSiP焊点的可靠性
高端倒装芯片系统级封装(FCSiP)目前所面临的挑战有:如何来获得具有所需信号和功率完整性能的可布线性、封装的热-机械性...

用于MEMS器件的DRIE工艺
mEMS产品越来越多地应用于消费类电子市场,例如:汽车电子、通信设备、信息技术、医疗领域以及环境工程等方面。大规模生产...

科技新知 Tech update

掩模板缺陷检测设备的比较:KLAC与AMAT
随着芯片特征图形尺寸已缩小到不到曝光波长的三分之一,先进的光刻掩模板已越来越变得更像是一个光学部件。现在的掩模...

新品橱窗 New Products

XLA产品的升级

掩模光刻机套件

旋转叶片泵

光纤温度传感器

等离子体刻蚀系统

扫描电镜SEM的附件

进行工艺设置和控制的软件工具包

修复用的激光器

干式直流驱动的真空泵

活动通路地板的安全框架

压电陶瓷纳米级定位马达

Integra RS 干式光阻去除系统

硅漂移型探测器

新系列过滤器提升45nm制程效能

其他 Others

三维封装工艺过程
本文是三维封装技术的系列文章中的第三篇,总结了Advanced Packaging杂志于2008年1月期间制作的网络直播节目中探讨的内容...

广告索引 Ad Index

广告索引 Ad Index
详情请进入...

产业新闻 WaferNews

Tegal并购Alcatel公司DRIE与PECVD的产品线与知识产权

京东方将在合肥建6代线

世伟洛克常熟制造基地投入运营

工研院与半导体厂共建3D IC平台

IC China 2008成功落幕

罗门哈斯推出新的ACuPLANE铜阻挡层CMP解决方案

KLA-Tencor推出全新控片检测系统

IBM实现22nm制造工艺

中芯国际武汉厂投产

Rave推出Rhazer Haze去除系统

道康宁推出优化的LED制程方案

Intermolecular与尔必达合作进行次世代内存技术研发

ADI为医学超声成像提供最优化方案

张汝京:45nm明年Q2有望通过认证,32nm期待一年内实现

罗门哈斯推出新型CMP研磨垫

Dow Corning针对英特尔新一代笔记本处理器开发高效能导热膏

工研院发表突破性塑料基板取下技术









请用 Microsoft Internet Explorer 6.0 或以上版本。
Please use Microsoft Internet Explorer 6.0 or higher version.
备案序号:粤ICP备05082918号